疊舟PECVD鍍膜設備（M82300-15/UM型）
關鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線集成解決方案提供商
疊舟PECVD鍍膜設備（M82300-15/UM型）
疊舟PECVD鍍膜設備（M82300-15/UM型）
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PECVD 即等離子體增強化學氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產生等離子體對化學氣相沉積過程施加影響的技術，可與自研疊舟
插片機配套；主要適用于晶體硅太陽能電池制造中電池片的正背面的減反射膜的生長，如氮化硅、氮氧硅等膜層的制備。
設備特點
· 單管載片量：M10硅片量1368片/M12硅片1024片
· 反應室：紅太陽專利疊舟淀積成膜技術，反應室利用率提升15%
· 產能優勢：單機產能提升15%，可達500MW
· 運行成本優勢：綜合COO成本降低10%+
· 性能穩定：新型推舟、運動電極和進氣技術，提升設備穩定，成膜均勻
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