PECVD鍍膜設備（M82300-10/UM型）
關鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線集成解決方案提供商
PECVD鍍膜設備（M82300-10/UM型）
PECVD鍍膜設備（M82300-10/UM型）
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PECVD 即等離子體增強化學氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產生等離子體對化學氣相沉積過程施加影響的技術；主要適用于晶
體硅太陽能電池制造中電池片的正背面的減反射膜的生長，如氮化硅、氮氧硅等膜層的制備。
設備特點
· 單管載片量：M10硅片量768片/M12硅片616片
· 加熱系統(tǒng)：爐體集成輔熱，多段獨立可控輔熱設計，提升產能且成膜均勻性
· 放電機構：新型運動式電極機構，降低對電極卡槳故障率
· 新型推舟機構：提升推舟系統(tǒng)剛度，槳翹度形變減少20%，推舟速度提升30%
· 能耗：采用新型保溫材料和結構，比前一代機型單片電池片節(jié)能10%
· 粉塵倒灌功能：采用算法提前判斷泵停，減少泵異常停止粉塵
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